نیکون Litho Booster 1000 را معرفی کرد؛ جهشی بزرگ در دقت هم‌ترازی نیمه‌هادی‌ها

پیشنهادهایی برای شما

مشاهده همه

لنز زوم نیکون Nikon AF Zoom-Nikkor 18-35mm f/3.5-4.5D IF-ED Lens

48,000,000

کیج گوشی موبایل نیور Neewer PA017 Phone Cage

9%

6,800,000 7,500,000

سافت باکس پرتابل وسکات Westcott Portable 160×35 Softbox

10%

4,400,000 4,900,000

سافت لایت وسکات Westcott LED SURFACE 360Bi Softlight

9%

9,900,000 10,900,000

اکتاباکس پارابولیک آراروکس Ararox QR-P90 Parabolic Softbox (90cm)

10,500,000

ویدیو لایت پرتابل وسکات Westcott LED 80W Bi-Color VIDEOLIGHT

14%

9,499,000 11,000,000

دسته دوبل گیمبال اسمال ریگ SmallRig 3027 for DJI Dual Handgrip

5%

17,999,000 19,000,000

پنل نور ثابت آر جی بی آراروکس Ararox Portable 100W RGB Panel Light

12,500,000

ویدیو لایت اولانزی Ulanzi LM-P40Bi 40W Bi-Color Pocket LED Video Light

8,400,000

نور ثابت ال ای دی اولانزی Ulanzi LT028 40W Portable LED Video Light

11,060,000

نور ثابت ال ای دی اولانزی Ulanzi VL120 RGB Compact Video Light

23,800,000

نور ثابت ال ای دی اولانزی Ulanzi VL120 Bi-Color Pocket LED Video Light

16,800,000

توکیو – شرکت Nikon Corporation از توسعه سیستم جدید Litho Booster 1000 خبر داد؛ جدیدترین ایستگاه هم‌ترازی نیکون که با هدف دستیابی به دقت بسیار بالا در Overlay برای تولید نسل جدید دستگاه‌ها و تراشه‌های سه‌بعدی طراحی شده است.

این سیستم با انجام نمونه‌برداری پرتراکم از نشانه‌های هم‌ترازی روی هر ویفر و ارسال مستقیم داده‌های اصلاحی دقیق به سیستم لیتوگرافی پیش از مرحله نوردهی، کنترل فرآیند را به شکل محسوسی بهبود می‌دهد و منجر به افزایش بازده تولید (Yield) می‌شود. نیکون اعلام کرده که عرضه رسمی این سیستم برای نیمه دوم سال ۲۰۲۶ برنامه‌ریزی شده است.

افزایش دقت Overlay پیش از نوردهی

Litho Booster 1000 به‌عنوان یک ایستگاه هم‌ترازی پیشرفته، داده‌های اصلاحی را پیش از مرحله Exposure به سیستم لیتوگرافی ارسال می‌کند. این رویکرد پیش‌دستانه، امکان اعمال تصحیحات دقیق‌تر را فراهم کرده و خطاهای هم‌ترازی را در مراحل بعدی تولید به حداقل می‌رساند.

نمونه‌برداری پرتراکم از نشانه‌های ویفر، باعث افزایش دقت اندازه‌گیری و بهبود یکنواختی هم‌ترازی در کل سطح ویفر می‌شود؛ عاملی کلیدی برای تولید تراشه‌های پیشرفته.

سازگاری با سیستم‌های مختلف لیتوگرافی

یکی از ویژگی‌های مهم Litho Booster 1000، انعطاف‌پذیری بالا در استفاده است. این سیستم علاوه بر پشتیبانی از تجهیزات لیتوگرافی نیکون، با سیستم‌های لیتوگرافی سایر تولیدکنندگان نیز سازگار است.

نیکون از سال ۲۰۱۸ تاکنون در زمینه ارائه ایستگاه‌های هم‌ترازی برای پاسخ به نیازهای دقیق مشتریان فعالیت داشته و مدل جدید، یک جهش بزرگ در توانمندی و عملکرد این خانواده محسوب می‌شود.

پاسخ به چالش‌های تولید تراشه‌های سه‌بعدی

با گسترش سریع ساختارهای سه‌بعدی (3D) در بخش‌های مختلف صنعت نیمه‌هادی، از جمله:

• سنسورهای تصویر CMOS
• پردازنده‌ها و مدارهای منطقی
• حافظه‌های NAND Flash
• و در آینده نزدیک DRAM

چالش‌های هم‌ترازی افزایش یافته‌اند. تغییر شکل ویفر، عدم تطابق لایه‌ها و فرآیندهای Wafer-to-Wafer Bonding نیازمند اندازه‌گیری‌های دقیق‌تر و پرتراکم‌تر برای حفظ تلرانس‌های سخت‌گیرانه Overlay هستند.

بهبود کیفیت و بازده تولید با حفظ بهره‌وری

Litho Booster 1000 با ارتقای دقت اندازه‌گیری چندنقطه‌ای و مطلق، این چالش‌ها را برطرف می‌کند و در عین حال، بهره‌وری بالای خط تولید را حفظ می‌کند. نتیجه این پیشرفت‌ها، افزایش کیفیت نهایی قطعات و بهبود قابل توجه بازده تولید در فرآیندهای پیچیده نیمه‌هادی است.

توسعه این سیستم بخشی با حمایت نتایج تحقیقاتی پروژه‌ای انجام شده که توسط سازمان توسعه فناوری‌های نوین انرژی و صنعت ژاپن (NEDO) سفارش داده شده است.