نیکون Litho Booster 1000 را معرفی کرد؛ جهشی بزرگ در دقت هم‌ترازی نیمه‌هادی‌ها
انتشار: ۳ دقیقه مطالعه
نیکون با معرفی Litho Booster 1000، ایستگاه هم‌ترازی نسل جدیدی را برای صنعت نیمه‌هادی ارائه کرده است. این سیستم با نمونه‌برداری پرتراکم از ویفر و ارسال داده‌های اصلاحی پیش از نوردهی، دقت Overlay را افزایش داده و بازده تولید تراشه‌های پیشرفته سه‌بعدی را بهبود می‌بخشد.
فلش مموری نکسا Nexa VEGA USB 2.0 64GB Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
فلش مموری نکسا Nexa VEGA USB 2.0 32GB Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
فلش مموری نکسا Nexa PREMIER USB 2.0 64GB Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
فلش مموری نکسا Nexa PREMIER USB 2.0 32GB Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
فلش مموری نکسا Nexa PREMIER USB 2.0 16GB Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
فلش مموری نکسا Nexa POCO 64GB USB 3.0 Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
فلش مموری نکسا Nexa POCO 32GB USB 3.0 Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
فلش مموری نکسا Nexa OPTIMA 64GB USB 2.0 Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
فلش مموری نکسا Nexa OPTIMA 32GB USB 2.0 Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
فلش مموری نکسا Nexa OPTIMA 16GB USB 2.0 Flash Drive
مشاهده‌ی قیمت در فروشگاه
توکیو – شرکت Nikon Corporation از توسعه سیستم جدید Litho Booster 1000 خبر داد؛ جدیدترین ایستگاه هم‌ترازی نیکون که با هدف دستیابی به دقت بسیار بالا در Overlay برای تولید نسل جدید دستگاه‌ها و تراشه‌های سه‌بعدی طراحی شده است.
این سیستم با انجام نمونه‌برداری پرتراکم از نشانه‌های هم‌ترازی روی هر ویفر و ارسال مستقیم داده‌های اصلاحی دقیق به سیستم لیتوگرافی پیش از مرحله نوردهی، کنترل فرآیند را به شکل محسوسی بهبود می‌دهد و منجر به افزایش بازده تولید (Yield) می‌شود. نیکون اعلام کرده که عرضه رسمی این سیستم برای نیمه دوم سال ۲۰۲۶ برنامه‌ریزی شده است.
افزایش دقت Overlay پیش از نوردهی
Litho Booster 1000 به‌عنوان یک ایستگاه هم‌ترازی پیشرفته، داده‌های اصلاحی را پیش از مرحله Exposure به سیستم لیتوگرافی ارسال می‌کند. این رویکرد پیش‌دستانه، امکان اعمال تصحیحات دقیق‌تر را فراهم کرده و خطاهای هم‌ترازی را در مراحل بعدی تولید به حداقل می‌رساند.
نمونه‌برداری پرتراکم از نشانه‌های ویفر، باعث افزایش دقت اندازه‌گیری و بهبود یکنواختی هم‌ترازی در کل سطح ویفر می‌شود؛ عاملی کلیدی برای تولید تراشه‌های پیشرفته.
سازگاری با سیستم‌های مختلف لیتوگرافی
یکی از ویژگی‌های مهم Litho Booster 1000، انعطاف‌پذیری بالا در استفاده است. این سیستم علاوه بر پشتیبانی از تجهیزات لیتوگرافی نیکون، با سیستم‌های لیتوگرافی سایر تولیدکنندگان نیز سازگار است.
نیکون از سال ۲۰۱۸ تاکنون در زمینه ارائه ایستگاه‌های هم‌ترازی برای پاسخ به نیازهای دقیق مشتریان فعالیت داشته و مدل جدید، یک جهش بزرگ در توانمندی و عملکرد این خانواده محسوب می‌شود.
پاسخ به چالش‌های تولید تراشه‌های سه‌بعدی
با گسترش سریع ساختارهای سه‌بعدی (3D) در بخش‌های مختلف صنعت نیمه‌هادی، از جمله:
- سنسورهای تصویر CMOS
- پردازنده‌ها و مدارهای منطقی
- حافظه‌های NAND Flash
- و در آینده نزدیک DRAM
چالش‌های هم‌ترازی افزایش یافته‌اند. تغییر شکل ویفر، عدم تطابق لایه‌ها و فرآیندهای Wafer-to-Wafer Bonding نیازمند اندازه‌گیری‌های دقیق‌تر و پرتراکم‌تر برای حفظ تلرانس‌های سخت‌گیرانه Overlay هستند.
بهبود کیفیت و بازده تولید با حفظ بهره‌وری
Litho Booster 1000 با ارتقای دقت اندازه‌گیری چندنقطه‌ای و مطلق، این چالش‌ها را برطرف می‌کند و در عین حال، بهره‌وری بالای خط تولید را حفظ می‌کند. نتیجه این پیشرفت‌ها، افزایش کیفیت نهایی قطعات و بهبود قابل توجه بازده تولید در فرآیندهای پیچیده نیمه‌هادی است.
توسعه این سیستم بخشی با حمایت نتایج تحقیقاتی پروژه‌ای انجام شده که توسط سازمان توسعه فناوری‌های نوین انرژی و صنعت ژاپن (NEDO) سفارش داده شده است.
تیم ما متشکل از نویسندگان متخصصی است که اشتیاق زیادی به صنعت تصویربرداری دارند. هدف ما این است که به شما در درک بهتر عکاسی، ارتقای مهارت‌هایتان و الهام‌بخشیدن به خلق آثار هنریتان کمک کنیم.
دیدگاه‌ها